磁控濺射鍍膜技術(shù)相比其他的鍍膜工藝，能獲得更好的膜層組織，當(dāng)然也離不開一款穩(wěn)定性更高的磁控濺射鍍膜電源，小編今天主要介紹磁控濺射鍍膜工藝的流程和優(yōu)勢。

磁控濺射鍍膜工藝首先安裝工件，然后預(yù)抽真空到6Pa，然后開啟擴(kuò)散泵，本底真空度要到6*10^-3，對工件進(jìn)行烘烤加熱，然后通入氬氣，真空度要在2*10^-1Pa~5*10^-1 Pa。接通磁控濺射電源以后，靶電壓控制在300V-600V，氬氣被電離，產(chǎn)生陰極濺射作用，獲得膜層粒子。如果通入反映氣體就可以得到化合物膜，達(dá)到一定的厚度以后關(guān)閉濺射電源、偏壓電源、氮?dú)?、氬氣，?dāng)工件低于100度的時(shí)候才可以充入大氣，取出工件。

磁控濺射可以鍍各種膜層，當(dāng)工件是玻璃、陶瓷時(shí)只需要烘烤加熱，然后開啟磁控濺射電源，進(jìn)行陰極濺射鍍膜，當(dāng)工件為金屬材料時(shí)，工件要接負(fù)偏壓，濺射下來的原子在等離子體中被電離，得到的金屬離子在負(fù)偏壓的作用下到達(dá)工件，這個過程叫做磁控濺射離子鍍過程。如果通入氬氣獲得的是純金屬膜，通入的反應(yīng)氣體獲得是化合物膜，叫反應(yīng)磁控濺射，所以用磁控濺射可以鍍各種膜層。

磁控濺射鍍膜是在輝光放電中等離子體中進(jìn)行的，膜層粒子由氬離子從陰極靶材上濺射到的。陰極靶材沒有熔池始終保持固態(tài)，陰極靶材的位置可以隨意安放，可以水平安放也可以垂直安放，磁控濺射靶是個大面積鍍膜源，鍍膜均勻區(qū)大，不足就是平面靶材的利用率低，磁控濺射鍍的膜層更加細(xì)膩，裝飾效果更好。

上面提到要得到一個理想的鍍膜效果離不開一款好的鍍膜電源。英能是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射電源的廠家，在濺射鍍膜電源和偏壓電源方面的研究取得了卓越的成績，目前最常見的中頻磁控濺射電源、直流磁控濺射電源和偏壓電源都展現(xiàn)出了極大的優(yōu)勢，有興趣可以撥打電話18025476062，期待您的來電咨詢和了解。